本设备为内圆抛光专用设备,适用于各类不锈钢筒体、压力容器、储罐等工件内壁的打磨与抛光。整机结构紧凑,采用底座行走、立柱移动、罐体旋转的方式实现抛光全覆盖,可选用千叶轮、布轮、麻轮等多种耗材,满足不同粗糙度和光洁度要求。 磨头安装在横梁前端,由电动机通过联轴器驱动,后端配有气缸铰链浮动装置,保证抛光过程中的稳定性与柔性。横梁上下可点动调节,方便精确控制磨头位置,实现高效、均匀的内壁抛光处理。
内圆抛光机XYD-PP-2500
本设备为内圆抛光专用设备,适用于各类不锈钢筒体、压力容器、储罐等工件内壁的打磨与抛光。整机结构紧凑,采用底座行走、立柱移动、罐体旋转的方式实现抛光全覆盖,可选用千叶轮、布轮、麻轮等多种耗材,满足不同粗糙度和光洁度要求。
磨头安装在横梁前端,由电动机通过联轴器驱动,后端配有气缸铰链浮动装置,保证抛光过程中的稳定性与柔性。横梁上下可点动调节,方便精确控制磨头位置,实现高效、均匀的内壁抛光处理。
适配多种抛光耗材:支持千叶轮、布轮、麻轮等多种材质更换,灵活应对不同内表面处理需求。
双变频调速系统:控制立柱行走与罐体旋转速度,抛光节奏自由调节,精度与效率兼备。
浮动结构设计:后端浮动系统通过气缸控制,磨头与内壁始终贴合,确保表面一致性。
人性化调节结构:横梁可上下点动调节,满足不同规格工件加工位置调整。
紧凑结构设计:设备占地小,运输、安装方便,适用于工厂现场连续作业。
项目 | 参数 |
---|---|
输入总功率 | 约 5 KW |
设备总质量 | 2500 KG |
外形尺寸(L×W×H) | 3500 × 1600 × 2000 mm |
抛光电机型号 | WANNA二级电机 Y100L2-4 |
抛光电机功率 | 3KW,额定电流 6.7A,转速 2800r/min,重量 38KG |
内抛直径范围 | φ300mm ~ φ1000mm |
抛光长度 | ≤2500mm |
控制系统 | 横梁点动上下调节、立柱行走、罐体旋转,双变频控制 |
罐体旋转架尺寸 | 长2000mm × 宽1500mm |
最大承重 | 500 KG |
各类不锈钢压力容器内壁抛光
储气罐、化工罐内圆表面处理
医疗、食品级罐体镜面打磨
各种金属圆筒内部去焊缝、去氧化皮抛光